離子源系統

產品簡介

GCIB-10S 離子源系統是一種高性能10千伏氣體團簇離子束，用于快速、低損傷濺射和更高質量的表面分析。GCIB 10S提供了大量有用的功能，包括實時集群大小測量和內置樣本電流成像系統，以幫助您充分利用實驗。

產品型號：GCIB 10S

更新時間：2025-04-24

廠商性質：代理商

訪問量：3410

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簡介：

GCIB-10S 離子源系統是一種高性能10千伏氣體團簇離子束，用于快速、低損傷濺射和更高質量的表面分析。

GCIB 10S提供了大量有用的功能，包括實時集群大小測量和內置樣本電流成像系統，以幫助您充分利用實驗。

GCIB-10S 離子源系統具有完整的泵送系統和單獨軟件，是一種栓接式升級，將集束束濺射的力量引入現有的真空儀器，如XPS、SEM和SIMS。

主要參數：

主要應用	濺射
光斑尺寸	250 µm
掃描范圍	7.5 x 7.5 mm
能耗范圍	1 – 10 kV
電流范圍	60 nA
法蘭至機頭長度	143 mm
推薦工作距離	50 mm
電源裝置	3U x 19’’ rack mountable unit
電源要求	110-240VAC 13A 50/60Hz
軟件要求	PC running Windows 10 or later
集成法蘭規格	NW 63 CF

特點:

◇ 10kV氬團簇離子源，可選擇Ar1至>Ar3000的團簇；

◇ 實時集群測量和調整；

◇ 采樣電流成像；

◇ 光斑尺寸大，掃描范圍寬，可均勻去除材料；

◇ 易于安裝在許多高真空儀器上；

◇ 單獨軟件和基于web套接字的API，用于與第三方軟件集成

應用技術：

GCIB 10S可去除不定碳和其他表面污染，而不會損壞基材，同時還可對有機物和聚合物等軟材料進行無損傷深度剖析。

右圖顯示了分別使用Ar1和Ar2000蝕刻原始PET表面前后的C 1s 峰值。數據清楚地顯示了單原子Ar1束（紅色）造成的化學損傷，而光譜在暴露于Ar2000束（藍色）后幾乎保持不變

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